从今天开始
,写给小白我们聊聊芯片的片封普封装和测试(通常简称“封测”)
。 这一部分,装入在行业里也被称为后道(Back End)工序 ,门科一般都是写给小白由OSAT封测厂(Outsourced Semiconductor Assembly and Test ,外包半导体封装与测试)负责
。片封普 先说封装。 封装这个词,门科其实我们经常会听到
。写给小白它主要是片封普指把晶圆上的裸芯片(晶粒)变成最终成品芯片的过程。服务器租用 之所以要做封装,装入主要目的门科有两个
。 一个是写给小白对脆弱的晶粒进行保护,防止物理磕碰损伤,片封普也防止空气中的装入杂质腐蚀晶粒的电路。 二是让芯片更适应使用场景的要求。 芯片有很多的应用场景。不同的建站模板场景 ,对芯片的外型有不同的要求。进行合适的封装,能够让芯片更好地工作
。 我们平时会看到很多种外型的芯片,其实就是不同的封装类型 封装工艺伴随芯片的出现而出现
,迄今为止已有70多年的历史。免费模板 总的来看,封装工艺一共经历了五个发展阶段
: 接下来
,我们一个个来说。 最早期的晶体管 ,采用的是TO(晶体管封装) 。后来
,发展出了DIP(双列直插封装)
。 我们最熟悉的三极管造型,就是TO封装 再后来,由PHILIP公司开发出了SOP(小外型封装),高防服务器并逐渐派生出SOJ(J型引脚小外形封装)、TSOP(薄小外形封装)、VSOP(甚小外形封装)、SSOP(缩小型SOP)
、TSSOP(薄的缩小型SOP)及SOT(小外形晶体管) 、SOIC(小外形集成电路)等。 DIP内部构造 第一、第二阶段(1960-1990年)的封装,以通孔插装类封装(THP)以及表面贴装类封装(SMP)为主,属于传统封装。 传统封装 ,主要依靠引线将晶粒与外界建立电气连接。 这些传统封装,直到现在仍比较常见。亿华云尤其是一些老的经典型号芯片
,对性能和体积要求不高,仍会采用这种低成本的封装方式
。 第三阶段(1990-2000年)
,IT技术革命加速普及,芯片功能越来越复杂,需要更多的针脚。电子产品小型化,又要求芯片的体积继续缩小。 这时,BGA(球型矩阵、源码库球栅阵列)封装开始出现
,并成为主流
。 BGA仍属于传统封装
。它的接脚位于芯片下方 ,数量庞大,非常适合需要大量接点的芯片。而且
,相比DIP ,BGA的体积更为紧凑 ,非常适合需要小型化设备。 BGA封装 BGA封装内部 和BGA有些类似的,还有LGA(平面网格阵列封装)和PGA(插针网格阵列封装)。大家应该注意到了
,我们最熟悉的CPU
,就是这三种封装
。 20世纪末,芯片级封装(CSP)
、晶圆级封装(WLP)、倒装封装(Flip Chip)开始慢慢崛起。传统封装开始向先进封装演变
。 相比于BGA这样的封装,芯片级封装(CSP)强调的是尺寸的更小型化(封装面积不超过芯片面积的1.2倍) 。 封装的层级(来自Skhynix) 晶圆级封装是芯片级封装的一种 ,封装的尺寸接近裸芯片大小。 下期我们讲具体工艺的时候
,会提到封装包括了一个切割工艺。传统封装 ,是先切割晶圆,再封装。而晶圆级封装
,是先封装,再切割晶圆,流程不一样。 晶圆级封装 倒装封装(Flip Chip)的发明时间很早
。1960年代的时候 ,IBM就发明了这个技术。但是直到1990年代 ,这个技术才开始普及
。 采用倒装封装,就是不再用金属线进行连接
,而是把晶圆直接反过来 ,通过晶圆上的凸点(Bump)
,与基板进行电气连接。 和传统金属线方式相比,倒装封装的I/O(输入/输出)通道数更多,互连长度缩短
,电性能更好
。另外,在散热和封装尺寸方面,倒装封装也有优势。 先进封装的出现,迎合了当时时代发展的需求 。 它采用先进的设计和工艺
,对芯片进行封装级重构
,带来了更多的引脚数量、更小的体积、更高的系统集成度 ,能够大幅提升系统的性能
。 进入21世纪后 ,随着移动通信和互联网革命的进一步爆发,促进芯片封装进一步朝着高性能 、小型化
、低成本、高可靠性等方向发展 。先进封装技术开始进入高速发展的阶段。 这一时期
,芯片内部布局开始从二维向三维空间发展(将多个晶粒塞在一起)
,陆续出现了2.5D/3D封装、硅通孔(TSV)、重布线层(RDL)、扇入(Fan-In)/扇出(Fan-Out)型晶圆级封装、系统级封装(SiP)等先进技术。 当芯片制程发展逐渐触及摩尔定律的底线时,这些先进的封装技术,就成了延续摩尔定律的“救命稻草”。 2.5D和3D封装 ,都是对芯片进行堆叠封装
。 2.5D封装技术,可以将两种或更多类型的芯片放入单个封装 ,同时让信号横向传送,这样可以提升封装的尺寸和性能 。 最广泛使用的2.5D封装方法
,是通过硅中介层(Interposer)将内存和逻辑芯片(GPU或CPU等)放入单个封装。 2.5D封装需要用到硅通孔(TSV)
、重布线层(RDL)、微型凸块等核心技术。 3D封装是在同一个封装体内,于垂直方向叠放两个以上芯片的封装技术
。 2.5D和3D封装的主要区别在于
: 2.5D封装,是在Interposer上进行布线和打孔。而3D封装,是直接在芯片上打孔和布线
,连接上下层芯片堆叠。相对来说,3D封装的要求更高,难度更大
。 2.5D和3D封装起源于FLASH存储器(NOR/NAND)及SDRAM的需求。大名鼎鼎的HBM(High Bandwidth Memory,高带宽存储器),就是2.5D和3D封装的典型应用。将HBM和GPU进行整合,能够进一步发挥GPU的性能
。 HBM ,对于GPU很重要
,对AI也很重要 HBM通过硅通孔等先进封装工艺 ,垂直堆叠多个DRAM,并在Interposer上与GPU封装在一起
。HBM内部的DRAM堆叠 ,属于3D封装 。而HBM与GPU合封于Interposer上 ,属于2.5D封装
。 现在业界很多厂商推出的新技术
,例如CoWoS、HBM、Co-EMIB
、HMC、Wide-IO、Foveros、SoIC 、X-Cube等,都是由2.5D和3D封装演变而来的 。 大家应该都听说过SoC(System on Chip ,系统级芯片)
。我们手机里面那个主芯片,就是SoC芯片。 SoC ,简单来说,是将多个原本具有不同功能的芯片整合设计到一颗单一的芯片中。这样可以最大程度地缩小体积 ,实现高度集成
。 但是
,SoC的设计难度很大,同时还需要获得其他厂商的IP(intellectual property)授权,增加了成本 。 SiP(System In Packet,系统级封装) ,和SoC就不一样
。 SiP将多个芯片直接拿来用,以并排或叠加的方式(2.5D/3D封装)
,封装在一个单一的封装体内。 尽管SiP没有SoC那样高的集成度,但也够用 ,也能减少尺寸,最主要是更灵活、更低成本(避免了繁琐的IP授权步骤)。 业界常说的Chiplet(小芯粒、小芯片)
,其实就是SiP的思路,将一类满足特定功能的裸片(die) ,通过die-to-die的内部互联技术 ,互联形成大芯片。 前面反复提到了硅通孔(through silicon via
,TSV ,也叫硅穿孔)。 所谓硅通孔
,其实原理也挺简单
,就是在硅介质层上刻蚀垂直通孔,并填充金属
,实现上下层的垂直连接,也就实现了电气连接
。 由于垂直互连线的距离最短、强度较高,所以,硅通孔可以更容易实现小型化、高密度
、高性能等优点,非常适合叠加封装(3D封装)
。 硅通孔的具体工艺
,我们下期再做介绍。 RDL是在芯片表面沉积金属层和相应的介电层,形成金属导线,并将IO端口重新设计到新的、更宽敞的区域,形成表面阵列布局,实现芯片与基板之间的连接
。 RDL技术 说白了,就是在硅介质层里面重新连线,确保上下两层的电气连通。在3D封装中,如果上下堆叠的是不同类型的芯片(接口不对齐),则需要通过RDL重布线层,将上下层芯片的IO进行对准
。 如果说TSV实现了Z平面的延伸,那么,重布线层(RDL)技术则实现了X-Y平面进行延伸。业界的很多技术,例如WLCSP、FOWLP、INFO、FOPLP、EMIB等
,都是基于RDL技术 。 WLP(晶圆级封装)可分为扇入型晶圆级封装(Fan-In WLP)和扇出型晶圆级封装(Fan-Out WLP)两大类。 扇入型直接在晶圆上进行封装
,封装完成后进行切割,布线均在芯片尺寸内完成 ,封装大小和芯片尺寸相同。 扇出型则基于晶圆重构技术,将切割后的各芯片重新布置到人工载板上。然后 ,进行晶圆级封装,最后再切割 。布线可在芯片内和芯片外,得到的封装面积一般大于芯片面积
,但可提供的IO数量增加
。 目前量产最多的 ,是扇出型产品 。 以上
,小枣君尽可能简单地介绍了一些封装的背景知识。






















